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              2. 陶氏新聞
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                高純水設備相關標準

                高純水設備相關標準:相關,設備,標準

                原文出自:陶氏工業去離子水處理設備公司

                一、高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)制取設備,高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)設備,高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)系統水質標準:
                  我公司電子級超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)設備出水水質完全符合美國ASTM純水(又稱純凈水、去離子水)水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MOmega;.cm、15MOmega;.cm、10MOmega;.cm、2MOmega;.cm、0.5MOmega;.cm五級標準)、我國電子工業部高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)水質試行標準、美國半導體工業用純水(又稱純凈水、去離子水)指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

                二、超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)設備,超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)處理設備,高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)制取設備的要求:
                  新興的光電材料生產、加工、清洗去離子水設備;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)、超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
                三、超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)設備,超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)處理設備,高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)制取設備,東莞超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)設備反滲透設備操作人員培訓
                ,深圳超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)設備應用場合:
                  ☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗   ☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

                  ☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水(又稱純凈水、去離子水)   ☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀(precipitation)、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水(又稱純凈水、去離子水)   ☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水(又稱純凈水、去離子水)清洗和用純水(又稱純凈水、去離子水)配液

                  ☆晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制

                  ☆ 集成電路生產中高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)清洗硅片

                  ☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路   ☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

                  ☆高品質顯像管、螢光粉生產   ☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗   ☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料   ☆實驗室和中試車間

                  ☆汽車、家電表面拋光處理

                  ☆光電產品、其他高科技精微產品 咨詢熱線:Q:562501527 TEL:13925748694

                高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)制取設備,高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)設備,高純水(含鹽量在0.3mg/l以下-電導率小于0.2μs/cm的水)系統,超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)制取設備,超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)設備,超純水(水中導電介質、膠體物質、有機物等幾乎全部去除的水)系統

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